背景介绍：

崔波博士现为宁波东方理工大学终身正教授。1994年毕业于北京大学物理系获学士学位。2000年及2003年于美国普林斯顿大学电子工程系分别获硕士与博士学位。2003年至2008年在加拿大国家实验室（NRC）做研究。2008年加入加拿大滑铁卢大学电子与计算机工程系，2019年升为终身正教授。期间，2021/9 - 2022/12从滑铁卢大学停薪留职，回国任上海微技术工业研究院（SITRI）MEMS线工艺顾问。2023年12月从滑铁卢大学离职后全职加入上海微技术工业研究院（上海新微技术研发中心有限公司，国内首个8寸MEMS中试与代工平台）。2024年12月加入宁波东方理工大学。

至今已发表期刊文章135篇，并编辑纳米加工方面的专著一本。2016年回国创业，成立了杭州探真纳米科技有限公司，之后于2018年成立了其全资子公司淄博探微纳米科技有限责任公司（拥有完整的原子力显微镜（AFM）探针生产产线）。

研究领域：

其研究方向主要为微纳米结构与器件加工，包括光学光刻，电子束光刻，纳米压印, 聚焦离子束，及PVD/CVD/ALD薄膜镀膜，干法/深硅/湿法刻蚀技术的工艺研究; 并应用于MEMS制造，纳米压印模版制造，纳米光学器件（AR/VR光波导光栅，超构/超表面透镜，无源硅光结构等），用于注射的硅基空心生物微针，AFM探针，生物传感器，microLED，太赫兹接收/发射器件，光栅尺，用于插光纤的的硅通孔，微透镜等领域。

教育背景：

2000-2003：博士，普林斯顿大学电子工程系

1998-2000：硕士，普林斯顿大学电子工程系

1996-1998：硕士学习（未获学位），明尼苏达大学电子与计算机工程系

1989-1994：学士，北京大学物理系

工作经历：

2024-至今：宁波东方理工大学信息学部，教授

2024-2024：上海微技术工业研究院，资深总监

2008-2023：滑铁卢大学电子与计算机工程系，助理-副-正教授

2003-2008：加拿大国家实验室（NRC），副研究员

学术经历：

2021-2024：上海大学微电子学院，联聘教授（硕士研究生导师）

2011-2011：都柏林圣三一大学（Trinity College Dublin），访问学者

学术兼职：

2010-2023: Nanoscale Research Letters (Springer) 期刊编委

2008-2023：Program committee member (and session chair or co-chair) for the International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN).

2017-2022：Technical Program Committee member (and session co-chair), IEEE-NEMS conference

2009-2015：International Program Committee member for MNE (Micro and Nano Engineering) conference.

2011-2011：Technical program committee member for IEEE Canadian Conference on Electrical and Computer Engineering.

2011-2016：Facility access proposal reviewer for Molecular Foundry, Lawrence Berkeley National Laboratory.

获奖情况及荣誉：

2018: ECE Research Award, University of Waterloo (2 out of 92 ECE faculty members awarded).

2014: Engineering Research Excellence Award, University of Waterloo (3 out of 295 engineering faculty members awarded). 

2012: Dobbin Scholarship, Ireland Canada University Foundation.

代表性论著：

总体情况

130余篇 SCI论文；4部其他专著包括章节

论著信息及引用数据

Google Scholar：

https://scholar.google.ca/citations?hl=en&user=qxm1begAAAAJ

10篇代表作（黑体表示我的学生/博士后，*表示通讯作者）

1.      A. Pan, C. Zhu, Z. Yan, X. Zhu, Z. Liu, and B. Cui*, “Fabrication of the Highly Ordered Silicon Nanocone Array With Sub-5 nm Tip Apex by Tapered Silicon Oxide Mask”, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 37(2), 160 (2024).

2.      H. Wu, A. Pan, C. Zhu, and B. Cui*, “Fabrication of slanted gratings by using glancing angle deposition”, Journal of Vacuum Science & Technology B 42 (2), 023002 (2024).

3.      D. Zhang, W. Hu, and B. Cui*, “Fabrication of hollow silicon microneedles using grayscale lithography and deep reactive ion etching”, Journal of Vacuum Science & Technology B 42 (5), 053001 (2024).

4.      C. Zhu, H. Ekinci, A. Pan, B. Cui, and X. Zhu, “Electron beam lithography on nonplanar and irregular surfaces”, Microsystems & Nanoengineering 10 (1), 52 (2024).

5.      R. Islam, B. Cui, G. X. Miao, “Dry etching strategy of spin-transfer-torque magnetic random access memory: A review”, J. Vac. Sci. & Technol. B, 38, 050801 (2020).

6.      Y. Li, H. Zhang, R. Yang, Y. Laffitte, U. Schmill, W. Hu, M. Kaddoura, E. J. M. Blondeel, and B. Cui*, “Fabrication of sharp silicon hollow microneedles by deep reactive ion etching towards minimally-invasive diagnostics”, Microsystems & Nanoengineering, 5, 41 (2019).

7.      X. Zhang, Y. Liu, M. Soltani, P. Li, B. Zhao, and B. Cui*, “Probing the interfacial charge transfer process of uniform ALD semiconductor-molecule-metal models: an SERS Study”, Journal of Physical Chemistry C, 121 (48), 26939–26948 (2017).

8.      R.K. Dey, F. Aydinoglu, and B. Cui*, “Electron beam lithography on irregular surface using grafted PMMA monolayer as resist”, Advanced Materials - Interfaces, 4, 1600780 (2017).

9.      J. Zhang, C. Con and B. Cui*, “Electron beam lithography on irregular surfaces with evaporated resist”, ACS Nano, 8, 3483–3489 (2014).

10.    C. Con, J. Zhang and B. Cui*, “Nanofabrication of high aspect ratio structures using evaporated resist containing metal”, Nanotechnology, 25, 175301 (2014).